回收S3C2451X40 长期收购SR2C6 SR2C9 SR177 常州回收bga芯片回收TDA2030、收购TDA2822 江苏高价回收功放IC江苏回收ST芯片收购STC单片机东莞塘厦回收电子料回收IC芯片沙井回收库存芯片回收库存LED 平湖芯片ic回收电子ic回收 长期高价收购电脑工厂IC库存，福永回收ic二三极管北京回收三星ic，INTEL BGA南北桥 CPU 显卡芯片 网络芯片 声卡芯片，CPU
显影芯片图案的暴露区域，显示下面的氧化物延迟
未暴露的部分保留下来
因为它保护了之后的氧化物层，暴露的氧化物层在用等离子体显影的区域中被蚀刻掉。此工艺中的蚀刻，将特殊气体与待在反应室中移除的基材结合，这使得可以在窗口中移除微观层。
在上一步中曝光和显影的区域，一旦光致抗蚀剂残留物被剥离，晶片被清洁后，它将经历进一步的氧化。